La diferencia entre obleas pulidas y obleas epitaxiales

Las obleas pulidas se pueden utilizar como materiales de sustrato para chips de memoria, dispositivos de energía y obleas epitaxiales. La oblea epitaxial es una capa de silicio monocristalino cultivada a partir de una oblea pulida. Generalmente se utiliza para fabricar chips de procesadores generales, diodos y dispositivos de energía IGBT. Dado que las partículas pulidas originales son pequeñas y el tamaño de las partículas es menor que la longitud de onda de la luz visible, se forma una película de pulido transparente o translúcida después de distribuirse uniformemente.

Cómo utilizar el disco de pulido

Al usarlo, solo se necesita agua pura como medio de pulido. Durante el proceso de pulido, el nano-recubrimiento de la película de pulido liberará gradualmente partículas de pulido para participar en el pulido, haciendo que el extremo de la fibra sea muy suave. La película de pulido se puede reutilizar muchas veces, pero el número de usos varía según el tipo de máquina pulidora, las condiciones de pulido y los requisitos de calidad del pulido. No hay rayones o defectos anormalmente profundos en la cara del extremo de la fibra después del pulido fino.

Limpie a fondo el accesorio de la amoladora y la almohadilla de goma, asegurándose especialmente de que la superficie de la almohadilla de goma esté intacta y libre de materias extrañas. Rocíe una cantidad adecuada de agua pura sobre la superficie de la almohadilla de goma y límpiela; uniformemente con papel sin polvo y péguelo inmediatamente después de que la superficie esté inicialmente seca. Película de pulido: rocíe una pequeña cantidad de agua pura de manera uniforme sobre la superficie de la película de pulido, límpiela uniformemente con papel sin polvo para eliminar el polvo. aire debajo de la película de pulido; sople la superficie de la película de pulido con aire comprimido para eliminar el polvo o materias extrañas.