¿Qué es la fuente de alimentación de RF?
Fuente de alimentación RF
La fuente de alimentación RF es una fuente de alimentación de soporte de plasma. Está compuesta por una fuente de alimentación de radiofrecuencia, un comparador de impedancia y un medidor de potencia de impedancia. suministro de energía de alta tecnología en mi país a finales de la década de 1980. En el campo de la ciencia y la tecnología, se utiliza en pulverización catódica por radiofrecuencia, deposición química de vapor PECVD, grabado de iones reactivos y otros equipos.
Radio moderna. Las fuentes de alimentación de frecuencia han logrado grandes avances y se han desarrollado paso a paso desde las fuentes de alimentación de tubo en la década de 1980. Las fuentes de alimentación de RF de transistores actuales varían en potencia desde vatios, cientos de vatios, kilovatios hasta megavatios, con frecuencias de 2 Mhz/13,56 Mhz. /27.12Mhz/40.68Mhz, etc., y sus aplicaciones también se han expandido desde el anterior campo del vacío a otros campos, como semiconductores, belleza, etc.
Plasma
El plasma es una sustancia ionizada similar a un gas compuesta por átomos a los que se les ha privado de algunos de sus electrones y positrones y electrones negativos generados después de que los átomos se ionizan. Sustancia que elimina sólidos, además de líquidos y gases, es el cuarto estado de existencia material. El plasma es un buen conductor de la electricidad y se pueden utilizar campos magnéticos inteligentemente diseñados para capturar, mover y acelerar el plasma. El desarrollo de la física del plasma proporciona nuevas tecnologías y procesos para un mayor desarrollo de materiales, energía, información, medio ambiente, física espacial, geofísica y otras ciencias.
El plasma aparentemente "misterioso" es en realidad una sustancia común en el universo. El plasma existe en el sol, las estrellas y los rayos, y representa el 99% de todo el universo. Ahora la gente ha dominado el uso de campos eléctricos y magnéticos para controlar el plasma. Por ejemplo, los soldadores utilizan plasma de alta temperatura para soldar metales.
El plasma se puede dividir en dos tipos: plasma de alta temperatura y plasma de baja temperatura. Lo mencionado anteriormente es plasma de alta temperatura. Hoy en día, el plasma de baja temperatura se utiliza ampliamente en diversos campos de producción. Por ejemplo: televisores de plasma, revestimiento impermeable en la superficie de los pañales para bebés, mayores propiedades de barrera de las botellas de cerveza. Más importante aún, la aplicación del grabado en chips de computadora ha hecho realidad la era de Internet.
El plasma a alta temperatura sólo se produce cuando la temperatura es lo suficientemente alta. El sol y las estrellas emiten continuamente este plasma, que constituye el 99% del universo. El plasma de baja temperatura es un plasma que se produce a temperatura ambiente (aunque la temperatura de los electrones es muy alta). El plasma a baja temperatura se puede utilizar para tratamientos de superficies como oxidación y desnaturalización o para recubrimientos por precipitación de sustancias orgánicas e inorgánicas.